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IM4000II und IM5000

Ionenpolier-Systeme

Hochentwickeltes Ionenpolieren für eine schnelle und hochwertige SEM-Probenvorbereitung.
  • Hohe Abtragsgeschwindigkeit: Schnelle und effiziente Probenvorbereitung für harte Materialien
  • Querschnitts- und Flachpolieren: Flexible Optionen für unterschiedliche Anwendungen
  • Kryogenische Kühlung (optional): Reduziert Schäden an temperaturempfindlichen Proben
  • Benutzerfreundlichkeit: Intuitive Touchscreen-Steuerung für einfache Bedienung
  • Optimiert für SEM & AFM: Kompatibel mit Hitachi und Mikroskopen anderer Hersteller

Überblick

Die Hitachi-Ionenpolier-Systeme IM4000II und IM5000 ermöglichen eine hochpräzise Probenvorbereitung für die Rasterelektronenmikroskopie. Ganz gleich, ob Sie Metalle, Halbleiter, Polymere, Keramiken oder Schichtmaterialien analysieren, diese Systeme gewährleisten hochwertige Querschnitte und Oberflächenpolituren mit minimalen Artefakten.
Beide Systeme wurden für die akademische Forschung, die industrielle Qualitätskontrolle und materialwissenschaftliche Labore entwickelt und liefern schnelle, wiederholbare Ergebnisse, die sie für fortschrittliche Elektronenmikroskopieanwendungen unverzichtbar machen.

IM4000II

Das IM4000II ist ein All-in-One-System für Querschnitts- und/oder Oberflächendünnung und damit eine flexible Option für Labore, die ein einfaches Probenvorbereitungsgerät benötigen.

IM5000

Das fortschrittlichere IM5000 zeichnet sich durch eine höhere Abtragsgeschwindigkeit und großflächiges Querschnittspolieren aus und eignet sich daher perfekt für anspruchsvolle Anwendungen und Labore, die einen hohen Durchsatz benötigen

Merkmale und Vorteile

Anwendungsgalerie
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Bereiten Sie Querschnitte von harten Materialien für die Mikrostrukturanalyse vor.

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Querschnitt der Anode einer Li-Ionen-Batterie
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Schichten und Schnittstellen in integrierten Schaltungen freilegen

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Verhinderung von Verformungen bei temperaturempfindlichen Proben

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Untersuchung der Schichtzusammensetzung und der Adhäsionsqualität

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Beispiel für Querschnittsfräsen

Spezifikationen

  IM4000II IM5000
Verwendetes Gas Ar (Argon)-Gas Ar (Argon)-Gas
Beschleunigungsspannung 0 bis 6kV 0 bis 8kV
Maximale Abtragsgeschwindigkeit (geschätzt für Si-Proben und 100 μm Überstand) 500μm/h oder mehr ≥ 1mm/h
Maximale Schnittbreite  - 10mm
Maximale Probengröße 20(B) x 12(T) x 8(H)mm 20(B) x 12(T) x 8(H)mm
Bewegungsbereich der Probe X: ±7mm, Y: 0 bis +3mm X: ±7mm, Y: 0 bis +3mm
Ionenstrahl Intermittierende Bestrahlung EIN/AUS-Einstellung (1 Sekunde bis 59 Minuten 59 Sekunden) Standardfunktion
Schwenkwinkel ±15°, ±30°, ±40° ±15°, ±30°, ±40°
Großflächiges Querschnittspolieren - Bis zu 10mm Breite
Flacher Polierbereich φ 32mm φ 32mm
Maximale Probengröße φ 50 x 25(H)mm φ 50 x 25(H) mm
Rotationsgeschwindigkeit 1U/min, 25U/min 1U/min, 25U/min
Neigungsbereich 0 bis 90° 0 bis 90°
Kühltemperaturregelung (optional) 0 bis -100°C über LN2 0 bis -100°C über LN2
Maske für höhere Strahltoleranz (optional) 2x Strahltoleranz (kobaltfrei) 2x Strahltoleranz (kobaltfrei)
Stereomikroskop-Einheit (optional) 15x bis 100x, Binokular/Trinokular 15x bis 100x, binokular/trinokular

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Unsere Spezialisten beraten Sie gerne bei der Auswahl des richtigen Probenvorbereitungsgeräts für Ihre Anforderungen. Sprechen Sie uns an, um mehr über das IM4000II oder das IM5000 zu erfahren und herauszufinden, welches Gerät für Sie am besten geeignet ist. Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über beide Geräte zu erfahren oder eine Live-Demo zu buchen.

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